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  • 所属分类:离子束镀膜
  • 浏览次数:
  • 发布日期:2022-09-27 15:37:54
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

设备用途:

单室离子束镀膜设备系统为高真空多功能离子束沉积系统, 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

设备组成:

系统主要由沉积室、 考夫曼溅射离子源、 考夫曼清洗辅助离子源、 样品台、 样品加热装置、膜厚监测系统、 泵抽系统、 真空测量系统、 气路系统、 电控系统等组成。

技术指标:

1、极限真空度:≤8.0×10-5Pa (经烘烤除气后);

2、系统真空检漏漏率:≤5.0×10-8Pa.L/S;停机12小时≤5Pa.

3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,45分钟可达到6.6×10-4Pa;

4、系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成。

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